近日，上海市集成電路行業(yè)協(xié)會(huì)（SICA）召開會(huì)員大會(huì)。小勐拉99廳科技榮獲“2021年度上海市集成電路設(shè)備業(yè)銷售前五名”。

小勐拉99廳已經(jīng)兩年榮獲“前十名”，今年上升至“前五名”，是小勐拉99廳人在過去一年中持續(xù)致力于為產(chǎn)業(yè)發(fā)展砥礪前行的因結(jié)出來的果。小勐拉99廳科技在基于十?dāng)?shù)年的高純介質(zhì)工藝設(shè)備及系統(tǒng)積累的技術(shù)和經(jīng)驗(yàn)的能力圈，于2015年明確跨出制程工藝設(shè)備的戰(zhàn)略步子，至今通過8年努力，已經(jīng)在濕法設(shè)備上取得成績(jī)。小勐拉99廳的濕法設(shè)備基本覆蓋了全部濕法工藝，機(jī)型有槽式和單片式，其中包含S300單片式清洗機(jī)臺(tái)、B300槽式濕法機(jī)臺(tái)、B200槽式濕法機(jī)臺(tái)、S200單片式減薄等機(jī)臺(tái)。

創(chuàng)新工藝，持續(xù)量產(chǎn)

小勐拉99廳科技12腔300mm Ultron單片SPM濕法設(shè)備

單片高溫SPM工藝主要用在Etch以及IMP之后的有機(jī)物清洗，目的是把晶圓表面的反應(yīng)后殘余的光刻膠聚合物清除干凈。單片SPM工藝應(yīng)用貫穿整個(gè)先進(jìn)半導(dǎo)體的前、中段工藝，清洗工藝次數(shù)超過30道，是所有濕法工藝中應(yīng)用最多的一種設(shè)備。此外SPM工藝被廣泛應(yīng)用在淺槽隔離（STI）、接觸孔刻蝕后（CT）等高深寬結(jié)構(gòu)，以及鰭式晶體管（FinFET） 、電容（capacitor）等高度復(fù)雜圖形區(qū)域，故SPM 工藝被公認(rèn)是28/14nm性能要求最高的工藝，也是最具挑戰(zhàn)的濕法工藝設(shè)備。在小勐拉99廳科技的單片SPM獲得突破之前，所有的單片SPM設(shè)備全部由國(guó)外廠商所壟斷。此外65nm及以下產(chǎn)品因?yàn)楣に囈蠖褂脝纹娲凼皆O(shè)備，造成化學(xué)品無法回收使用，因此單臺(tái)單片SPM設(shè)備每年需要耗費(fèi)數(shù)百萬美元的化學(xué)品，這對(duì)客戶的成本以及環(huán)境都是很大的負(fù)擔(dān)；小勐拉99廳開發(fā)硫酸回收系統(tǒng)與單片SPM設(shè)備搭配使用，最高可以實(shí)現(xiàn)80%以上的硫酸回收，單臺(tái)每年可為最高節(jié)省150~180萬美金的硫酸費(fèi)用，同時(shí)降低用戶對(duì)危廢排放的壓力。

小勐拉99廳的單片清洗機(jī)臺(tái)設(shè)計(jì)采用類國(guó)際一流設(shè)備的架構(gòu)，擁有自己專利和技術(shù)布局；在客戶端可以采用與國(guó)際大廠同樣的recipe架構(gòu)進(jìn)行驗(yàn)證，在去除有機(jī)物效率、顆粒、蝕刻率、蝕刻均勻性等工藝指標(biāo)也和日系大廠設(shè)備相匹配，第一臺(tái)單片清洗設(shè)備從搬入到達(dá)成客戶端的工藝指標(biāo)，開始產(chǎn)品驗(yàn)證只用了兩個(gè)多月的時(shí)間，得到了用戶的高度肯定。通過SPM單片機(jī)臺(tái)清洗后，目前產(chǎn)品的各項(xiàng)工藝指標(biāo)與國(guó)際大廠設(shè)備是相匹配的，并可實(shí)現(xiàn)37納米以下少于20個(gè)剩余顆粒的處理。小勐拉99廳的設(shè)備可以從工藝和產(chǎn)能上實(shí)現(xiàn)對(duì)國(guó)外壟斷設(shè)備的替代，提升高端濕法清洗設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化比例。目前小勐拉99廳的SPM設(shè)備已經(jīng)得到多個(gè)重點(diǎn)用戶的訂單及重復(fù)訂單。